光刻
匀胶机显影机Track
◆全自动晶圆传送、匀胶/显影
◆匀胶厚度范围：0.5~40um；对应膜厚均匀性1%~5%
◆集成涂胶预处理单元ADHP
◆自动控温热/冷板＜180 °C；均匀性± 1%
◆显影均匀性＜3%
◆匀胶厚度范围：0.5~40um；对应膜厚均匀性1%~5%
◆集成涂胶预处理单元ADHP
◆自动控温热/冷板＜180 °C；均匀性± 1%
◆显影均匀性＜3%
喷涂机Spray Coater
◆全自动喷涂
◆喷涂工艺温度＜120℃
◆膜厚＞5um，均匀性＜10%
◆自动控温热/冷板＜180 °C；均匀性± 1%
◆喷涂工艺温度＜120℃
◆膜厚＞5um，均匀性＜10%
◆自动控温热/冷板＜180 °C；均匀性± 1%
接触式曝光机Contact aligner
◆双面对准
◆分辨率1um
◆套刻精度0.5um（正面对准）/1.5um（背面对准）
◆曝光模式：无光罩模式，接近式，软接触，硬接触
◆分辨率1um
◆套刻精度0.5um（正面对准）/1.5um（背面对准）
◆曝光模式：无光罩模式，接近式，软接触，硬接触
步进式光刻机Stepper i-line
◆分辨率0.4um
◆套刻精度80nm
◆Oven双腔充氮烤箱
◆温度＜300℃
◆温控精度 ±1℃
◆升温速率 1~7℃/min；充氮降温
◆套刻精度80nm
◆Oven双腔充氮烤箱
◆温度＜300℃
◆温控精度 ±1℃
◆升温速率 1~7℃/min；充氮降温
